4K變倍鏡頭應用之晶圓缺陷檢測

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2022/03/04

編寫:adminBOSS

     我們生活中用到的電子設備、如手機、電腦、電視等都依靠芯片實現存儲、數據處理等功能。而每個芯片的核心是一個晶片,是由各種規格晶圓切割而來。晶圓本身存在良率問題,晶圓表面也可能存在各種缺陷。為了防止有缺陷的晶圓流入後續封裝過程,必須使用光學檢測設備對晶圓表面缺陷進行識別、分類和標記,並輔助晶圓分揀。

 

 

     光學檢測設備主要由光學鏡頭、工業掃描相機、光源、視覺處理系統等組成,可以代替傳統人工目檢,實現被檢測物品的精確識別,提高檢測效率。

 

 

     光學檢測設備鏡頭選擇中,普密斯4K變倍鏡頭相比傳統的光學鏡頭,倍率視野大小可以提升1.45X以上,具有大靶面、高分辨率、精度高、效率高、可連續性等優勢。支持1英寸傳感器相機,不僅擁有卓越的變倍性能,更可提供較寬的視野範圍,可更快更清晰捕捉晶圓產品製作過程中存在的灰塵殘留、氧化、刮傷、線性缺陷等瑕疵,及時將不良品剔除,保證產品質量。是半導體晶圓檢測應用的理想之選。

 

 

     普密斯4K變倍鏡頭是按照高規格的分辨率要求設計,倍率大小0.6x-5x,可以滿足大部分檢測應用需求,如數控刀具檢測、精密零部件字符檢測、FPC檢測等。普密斯作為機器視覺系統核心產品供應商,可為您提供完善視覺檢測方案。 

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